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超LSIレジストの分子設計

津田穣著. -- 共立出版, 1990. -- (表面・薄膜分子設計シリーズ / 日本表面科学会編 ; 11). <BB00980688>
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所蔵一覧 1件~2件(全2件)

No. 巻号 所蔵館 配置場所 資料ID 請求記号 状態 返却予定日 予約 WEB書棚
0001 本館 本館:3F一般書架 012645936 /501.4/N77H/11 0件
0002 日野館 日野:一般書架 101283695 /549.7/TS34 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 本館
配置場所 本館:3F一般書架
資料ID 012645936
請求記号 /501.4/N77H/11
状態
返却予定日
予約 0件
WEB書棚
No. 0002
巻号
所蔵館 日野館
配置場所 日野:一般書架
資料ID 101283695
請求記号 /549.7/TS34
状態
返却予定日
予約 0件
WEB書棚

書誌詳細

標題および責任表示 超LSIレジストの分子設計 / 津田穣著
チョウ LSI レジスト ノ ブンシ セッケイ
出版・頒布事項 東京 : 共立出版 , 1990.4
形態事項 v, 117p ; 19cm
巻号情報
ISBN 4320085116
書誌構造リンク 表面・薄膜分子設計シリーズ / 日本表面科学会編||ヒョウメン ハクマク ブンシ セッケイ シリーズ <BB00515556> 11//a
注記 文献: p[110]-113
学情ID BN04656779
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 津田, 穣(1935-)||ツダ, ミノル <AU00455328>
分類標目 電子工学 NDC8:549.7
分類標目 高分子化学工業 NDC8:578.4
分類標目 NDC7:549.8
分類標目 科学技術 NDLC:PA441
件名標目等 集積回路||シュウセキカイロ
件名標目等 工業材料||コウギョウザイリョウ
件名標目等 薄膜||ハクマク
件名標目等 感光性樹脂||カンコウセイジュシ
件名標目等 集積回路||シュウセキカイロ