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超LSIレジストの分子設計
津田穣著. -- 共立出版, 1990. -- (表面・薄膜分子設計シリーズ / 日本表面科学会編 ; 11). <BB00980688>
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超LSIレジストの分子設計
津田穣著. -- 共立出版, 1990. -- (表面・薄膜分子設計シリーズ / 日本表面科学会編 ; 11). <BB00980688>
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本館
日野館
10件
20件
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100件
No.
巻号
所蔵館
配置場所
資料ID
請求記号
状態
返却予定日
予約
WEB書棚
0001
本館
本館:3F一般書架
012645936
/501.4/N77H/11
0件
0002
日野館
日野:一般書架
101283695
/549.7/TS34
0件
No.
0001
巻号
所蔵館
本館
配置場所
本館:3F一般書架
資料ID
012645936
請求記号
/501.4/N77H/11
状態
返却予定日
予約
0件
WEB書棚
No.
0002
巻号
所蔵館
日野館
配置場所
日野:一般書架
資料ID
101283695
請求記号
/549.7/TS34
状態
返却予定日
予約
0件
WEB書棚
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書誌詳細
標題および責任表示
超LSIレジストの分子設計 / 津田穣著
チョウ LSI レジスト ノ ブンシ セッケイ
出版・頒布事項
東京 : 共立出版 , 1990.4
形態事項
v, 117p ; 19cm
巻号情報
ISBN
4320085116
書誌構造リンク
表面・薄膜分子設計シリーズ / 日本表面科学会編||ヒョウメン ハクマク ブンシ セッケイ シリーズ <BB00515556> 11//a
注記
文献: p[110]-113
学情ID
BN04656779
本文言語コード
日本語
著者標目リンク
津田, 穣(1935-)||ツダ, ミノル <AU00455328>
分類標目
電子工学 NDC8:549.7
分類標目
高分子化学工業 NDC8:578.4
分類標目
NDC7:549.8
分類標目
科学技術 NDLC:PA441
件名標目等
集積回路||シュウセキカイロ
件名標目等
工業材料||コウギョウザイリョウ
件名標目等
薄膜||ハクマク
件名標目等
感光性樹脂||カンコウセイジュシ
件名標目等
集積回路||シュウセキカイロ
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津田, 穣(1935-)
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電子工学 NDC8:549.7
高分子化学工業 NDC8:578.4
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科学技術 NDLC:PA441
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