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最新機能成膜プロセス技術 : エレクトロニクスにおける機能膜作製技術

逢坂哲彌,二瓶公志編集. -- 広信社, 1987. <BB02135698>
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No. 巻号 所蔵館 配置場所 資料ID 請求記号 状態 返却予定日 予約 WEB書棚
0001 本館 本館:B2北_和図書 012587294 /549/O73K 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 本館
配置場所 本館:B2北_和図書
資料ID 012587294
請求記号 /549/O73K
状態
返却予定日
予約 0件
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書誌詳細

標題および責任表示 最新機能成膜プロセス技術 : エレクトロニクスにおける機能膜作製技術 / 逢坂哲彌,二瓶公志編集
サイシン キノウ セイマク プロセス ギジュツ : エレクトロニクス ニ オケル キノウマク サクセイ ギジュツ
出版・頒布事項 東京 : 広信社 , 1987.6
形態事項 862p ; 27 cm
注記 各章末:文献
学情ID BN01531664
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 逢坂, 哲彌(1945-)||オオサカ, テツヤ <AU00408130>
著者標目リンク 二瓶, 公志(1937-)||ニヘイ, コウジ <AU00625374>
分類標目 化学工学.化学機器 NDC8:571.4