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プロセスの低温化

西澤潤一編. -- 工業調査会, 1985. -- (半導体研究 / 半導体研究振興会編 ; 21巻 . 超LSI技術 ; 8). <BB00832696>
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プロセスの低温化

西澤潤一編. -- 工業調査会, 1985. -- (半導体研究 / 半導体研究振興会編 ; 21巻 . 超LSI技術 ; 8). <BB00832696>
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No. 巻号 所蔵館 配置場所 資料ID 請求記号 状態 返却予定日 予約 WEB書棚
0001 日野館 日野：一般書架 102032208 /549.8/H/21 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 日野館
配置場所 日野：一般書架
資料ID 102032208
請求記号 /549.8/H/21
状態
返却予定日
予約 0件
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書誌詳細

標題および責任表示 プロセスの低温化 / 西澤潤一編
プロセス ノ テイオンカ
出版・頒布事項 東京 : 工業調査会 , 1985.3
形態事項 10, 331p, 挿図 ; 27cm
巻号情報
ISBN 4769310439
書誌構造リンク 半導体研究 / 半導体研究振興会編||ハンドウタイ ケンキュウ <BB00832256> 21巻 . 超LSI技術||チョウ LSI ギジュツ ; 8//bb
注記 執筆: 石川潔ほか
注記 各章末: 参考文献
学情ID BN00282757
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 西澤, 潤一(1926-)||ニシザワ, ジュンイチ <AU00100601>
分類標目 科学技術 NDLC:ND371
分類標目 電子工学 NDC8:549
件名標目等 半導体||ハンドウタイ
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