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最新フォトレジスト材料開発とプロセス最適化技術

河合晃監修. -- 普及版. -- シーエムシー出版, 2024. -- (CMCテクニカルライブラリー ; 840 . エレクトロニクスシリーズ). <BB02435397>
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最新フォトレジスト材料開発とプロセス最適化技術

河合晃監修. -- 普及版. -- シーエムシー出版, 2024. -- (CMCテクニカルライブラリー ; 840 . エレクトロニクスシリーズ). <BB02435397>
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No. 巻号 所蔵館 配置場所 資料ID 請求記号 状態 返却予定日 予約 WEB書棚
0001 日野館 日野：一般書架 20002081602 /549.7/Ka 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 日野館
配置場所 日野：一般書架
資料ID 20002081602
請求記号 /549.7/Ka
状態
返却予定日
予約 0件
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書誌詳細

標題および責任表示 最新フォトレジスト材料開発とプロセス最適化技術 / 河合晃監修
サイシン フォトレジスト ザイリョウ カイハツ ト プロセス サイテキカ ギジュツ
版事項 普及版
出版・頒布事項 東京 : シーエムシー出版 , 2024.8
形態事項 viii, 320p : 挿図 ; 26cm
巻号情報
ISBN 9784781317748
書誌構造リンク CMCテクニカルライブラリー||CMC テクニカル ライブラリー <BB00773226> 840 . エレクトロニクスシリーズ||エレクトロニクス シリーズ//a
その他の標題 標題紙タイトル:Advanced technologies for functional resist materials and process optimization
注記 2017年刊の普及版
注記 文献: 章末
注記 背に「TL840」とあり
注記 奥付・背・裏表紙に「B1438」とあり
学情ID BD08208554
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 河合, 晃||カワイ, アキラ <AU00767525>
分類標目 電子工学 NDC9:549.7
分類標目 電子工学 NDC10:549.7
分類標目 科学技術 NDLC:PA441
分類標目 高分子化学工業 NDC10:578.4
件名標目等 リソグラフィー||リソグラフィー
件名標目等 感光性樹脂||カンコウセイ ジュシ
件名標目等 感光性樹脂||カンコウセイジュシ
件名標目等 リソグラフィー||リソグラフィー
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