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最新ガスバリア薄膜技術 : ハイグレードガスバリアフィルムの実用化に向けて

中山弘, 小川倉一監修. -- 普及版. -- シーエムシー出版, 2017. -- (CMCテクニカルライブラリー ; 610 . エレクトロニクスシリーズ). <BB02351493>
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最新ガスバリア薄膜技術 : ハイグレードガスバリアフィルムの実用化に向けて

中山弘, 小川倉一監修. -- 普及版. -- シーエムシー出版, 2017. -- (CMCテクニカルライブラリー ; 610 . エレクトロニクスシリーズ). <BB02351493>
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No. 巻号 所蔵館 配置場所 資料ID 請求記号 状態 返却予定日 予約 WEB書棚
0001 日野館 日野：一般書架 20001958893 /549.8/N 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 日野館
配置場所 日野：一般書架
資料ID 20001958893
請求記号 /549.8/N
状態
返却予定日
予約 0件
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書誌詳細

標題および責任表示 最新ガスバリア薄膜技術 : ハイグレードガスバリアフィルムの実用化に向けて / 中山弘, 小川倉一監修
サイシン ガスバリア ハクマク ギジュツ : ハイ グレード ガスバリア フィルム ノ ジツヨウカ ニ ムケテ
版事項 普及版
出版・頒布事項 東京 : シーエムシー出版 , 2017.4
形態事項 vii, 232p : 挿図 ; 26cm
巻号情報
ISBN 9784781311968
書誌構造リンク CMCテクニカルライブラリー||CMC テクニカル ライブラリー <BB00773226> 610 . エレクトロニクスシリーズ||エレクトロニクス シリーズ//aa
その他の標題 標題紙タイトル:Advanced thin-film processes for gas-barrier films : toward the industrialization of high-grade gas-barrier films for electronics
注記 2011年刊の普及版
注記 文献あり
学情ID BB23415695
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 中山, 弘||ナカヤマ, ヒロシ <AU00753048>
著者標目リンク 小川, 倉一
オガワ, ソウイチ <>
分類標目 電子工学 NDC8:549.8
分類標目 電子工学 NDC9:549.8
件名標目等 薄膜||ハクマク
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