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フォトレジスト材料開発の新展開

上田充監修. -- 普及版. -- シーエムシー出版, 2015. -- (CMCテクニカルライブラリー ; 562 . エレクトロニクスシリーズ). <BB02268474>
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フォトレジスト材料開発の新展開

上田充監修. -- 普及版. -- シーエムシー出版, 2015. -- (CMCテクニカルライブラリー ; 562 . エレクトロニクスシリーズ). <BB02268474>
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No. 巻号 所蔵館 配置場所 資料ID 請求記号 状態 返却予定日 予約 WEB書棚
0001 本館 本館：３Ｆ一般書架 10004253094 /549.7/Sh26f/2015 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 本館
配置場所 本館：３Ｆ一般書架
資料ID 10004253094
請求記号 /549.7/Sh26f/2015
状態
返却予定日
予約 0件
WEB書棚
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書誌詳細

標題および責任表示 フォトレジスト材料開発の新展開 / 上田充監修
フォトレジスト ザイリョウ カイハツ ノ シンテンカイ
版事項 普及版
出版・頒布事項 東京 : シーエムシー出版 , 2015.11
形態事項 vii, 317p : 挿図 ; 26cm
巻号情報
ISBN 9784781310398
書誌構造リンク CMCテクニカルライブラリー||CMC テクニカル ライブラリー <BB00773226> 562 . エレクトロニクスシリーズ||エレクトロニクス シリーズ//aa
その他の標題 標題紙タイトル:New trends of photoresists
注記 2009年刊の普及版
注記 文献: 各章末
学情ID BB19937937
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 上田, 充(1948-)||ウエダ, ミツル <AU00402749>
分類標目 電子工学 NDC8:549.7
分類標目 電子工学 NDC9:549.7
件名標目等 リソグラフィー||リソグラフィー
件名標目等 感光性樹脂||カンコウセイジュシ
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