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液浸リソグラフィのプロセスと材料

東木達彦監修. -- 普及版. -- シーエムシー出版, 2012. -- (CMCテクニカルライブラリー ; 432 . エレクトロニクスシリーズ). <BB02167966>
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No. 巻号 所蔵館 配置場所 資料ID 請求記号 状態 返却予定日 予約 WEB書棚
0001 本館 本館:3F一般書架 10002736496 /549.7/E42s/2012 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 本館
配置場所 本館:3F一般書架
資料ID 10002736496
請求記号 /549.7/E42s/2012
状態
返却予定日
予約 0件
WEB書棚

書誌詳細

標題および責任表示 液浸リソグラフィのプロセスと材料 / 東木達彦監修
エキシン リソグラフィ ノ プロセス ト ザイリョウ
版事項 普及版
出版・頒布事項 東京 : シーエムシー出版 , 2012.8
形態事項 v, 243p ; 26cm
巻号情報
ISBN 9784781305509
書誌構造リンク CMCテクニカルライブラリー||CMC テクニカル ライブラリー <BB00773226> 432 . エレクトロニクスシリーズ||エレクトロニクス シリーズ//aa
その他の標題 標題紙タイトル:Process and Ingredient of Immersion Lithography
注記 「液浸リソグラフィのプロセスと材料」(2006年刊)の普及版
学情ID BB09913364
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 東木, 達彦
ヒガシキ,タツヒコ <>
分類標目 電子工学 NDC8:549.7
分類標目 電子工学 NDC9:549.7
件名標目等 リソグラフィー||リソグラフィー