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フォトマスク : 電子部品製造の基幹技術

田邉功, 竹花洋一, 法元盛久共著. -- 東京電機大学出版局, 2011. <BB02046725>
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フォトマスク : 電子部品製造の基幹技術

田邉功, 竹花洋一, 法元盛久共著. -- 東京電機大学出版局, 2011. <BB02046725>
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No. 巻号 所蔵館 配置場所 資料ID 請求記号 状態 返却予定日 予約 WEB書棚
0001 日野館 日野：一般書架 20001685917 /549.7/Ta 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 日野館
配置場所 日野：一般書架
資料ID 20001685917
請求記号 /549.7/Ta
状態
返却予定日
予約 0件
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書誌詳細

標題および責任表示 フォトマスク : 電子部品製造の基幹技術 / 田邉功, 竹花洋一, 法元盛久共著
フォトマスク : デンシ ブヒン セイゾウ ノ キカン ギジュツ
出版・頒布事項 東京 : 東京電機大学出版局 , 2011.4
形態事項 323p ; 21cm
巻号情報
ISBN 9784501328207
その他の標題 標題紙タイトル:Photomask technology
注記 参考文献: 各章末
学情ID BB05599166
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 田辺, 功(1937-)||タナベ, イサオ <AU00571420>
著者標目リンク 竹花, 洋一||タケハナ, ヨウイチ <AU00571421>
著者標目リンク 法元, 盛久||ホウガ, モリヒサ <AU00571422>
分類標目 電子工学 NDC8:549.7
分類標目 電子工学 NDC9:549.7
件名標目等 リソグラフィー||リソグラフィー
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