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入門フォトマスク技術 : LSI, FPD, PWB, MEMSのためのフォトマスク

田邉功, 竹花洋一, 法元盛久著. -- 工業調査会, 2006. <BB00232461>
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入門フォトマスク技術 : LSI, FPD, PWB, MEMSのためのフォトマスク

田邉功, 竹花洋一, 法元盛久著. -- 工業調査会, 2006. <BB00232461>
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No. 巻号 所蔵館 配置場所 資料ID 請求記号 状態 返却予定日 予約 WEB書棚
0001 日野館 日野：一般書架 20001419979 /549.7/Ta 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 日野館
配置場所 日野：一般書架
資料ID 20001419979
請求記号 /549.7/Ta
状態
返却予定日
予約 0件
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書誌詳細

標題および責任表示 入門フォトマスク技術 : LSI, FPD, PWB, MEMSのためのフォトマスク / 田邉功, 竹花洋一, 法元盛久著
ニュウモン フォト マスク ギジュツ : LSI FPD PWB MEMS ノ タメ ノ フォト マスク
出版・頒布事項 東京 : 工業調査会 , 2006.12
形態事項 323p, 図版[3]p : 挿図 ; 21cm
巻号情報
ISBN 4769312598
その他の標題 標題紙タイトル:Introduction to photomask technology
その他の標題 異なりアクセスタイトル:フォトマスク技術 : 入門 : LSI FPD PWB MEMSのためのフォトマスク
フォト マスク ギジュツ : ニュウモン : LSI FPD PWB MEMS ノ タメノ フォト マスク
注記 参考文献: 各章末
学情ID BA79886837
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 田辺, 功(1937-)||タナベ, イサオ <AU00571420>
著者標目リンク 竹花, 洋一||タケハナ, ヨウイチ <AU00571421>
著者標目リンク 法元, 盛久||ホウガ, モリヒサ <AU00571422>
分類標目 電子工学 NDC8:549.7
分類標目 電子工学 NDC9:549.7
件名標目等 リソグラフィー||リソグラフィー
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