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クラスターイオンビーム基礎と応用 : 次世代ナノ加工プロセス技術

山田公編著. -- 日刊工業新聞社, 2006. <BB00863788>
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クラスターイオンビーム基礎と応用 : 次世代ナノ加工プロセス技術

山田公編著. -- 日刊工業新聞社, 2006. <BB00863788>
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No. 巻号 所蔵館 配置場所 資料ID 請求記号 状態 返却予定日 予約 WEB書棚
0001 日野館 日野：一般書架 20001407600 /549.1/Y 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 日野館
配置場所 日野：一般書架
資料ID 20001407600
請求記号 /549.1/Y
状態
返却予定日
予約 0件
WEB書棚
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書誌詳細

標題および責任表示 クラスターイオンビーム基礎と応用 : 次世代ナノ加工プロセス技術 / 山田公編著
クラスター イオン ビーム キソ ト オウヨウ : ジセダイ ナノ カコウ プロセス ギジュツ
出版・頒布事項 東京 : 日刊工業新聞社 , 2006.10
形態事項 xi, 223p ; 21cm
巻号情報
ISBN 4526057657
その他の標題 標題紙タイトル:Cluster ion beam technology : advanced nano fabrication process
学情ID BA79102802
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 山田, 公||ヤマダ, イサオ <AU00561781>
分類標目 電子工学 NDC8:549.1
分類標目 電子工学 NDC9:549.1
件名標目等 イオンビーム||イオンビーム
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