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Principles of plasma discharges and materials processing

Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg. -- 2nd ed. -- Wiley-Interscience, 2005. <BB00101966>
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所蔵一覧 1件～2件（全2件）

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No. 巻号 所蔵館 配置場所 資料ID 請求記号 状態 返却予定日 予約 WEB書棚
0001 本館 本館：３Ｆ一般書架 10003336360 /427.6/L62p/2005 0件
0002 日野館 日野：一般書架(洋書) 20001558006 /427.6/L 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 本館
配置場所 本館：３Ｆ一般書架
資料ID 10003336360
請求記号 /427.6/L62p/2005
状態
返却予定日
予約 0件
WEB書棚
No. 0002
巻号
所蔵館 日野館
配置場所 日野：一般書架(洋書)
資料ID 20001558006
請求記号 /427.6/L
状態
返却予定日
予約 0件
WEB書棚
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書誌詳細

標題および責任表示 Principles of plasma discharges and materials processing / Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
版事項 2nd ed
出版・頒布事項 Hoboken, N.J. : Wiley-Interscience , c2005
形態事項 xxxv, 757 p. : ill. ; 25 cm
巻号情報
ISBN 9780471720010
注記 Includes bibliographical references (p. 735-748) and index
学情ID BA72469354
本文言語コード 英語
著者標目リンク *Lieberman, M. A. (Michael A.) <AU00522929>
著者標目リンク Lichtenberg, Allan J <AU00522928>
分類標目 LCC:QC718.5.D9
分類標目 DC22:530.4/4
件名標目等 Plasma dynamics
件名標目等 Thin films -- Surfaces
件名標目等 Plasma etching
件名標目等 Plasma chemistry -- Industrial applications
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