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フォトポリマーの基礎と応用

山岡亜夫監修. -- 普及版. -- シーエムシー出版, 2003. -- (CMCテクニカルライブラリー ; 136). <BB00762262>
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フォトポリマーの基礎と応用

山岡亜夫監修. -- 普及版. -- シーエムシー出版, 2003. -- (CMCテクニカルライブラリー ; 136). <BB00762262>
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No. 巻号 所蔵館 配置場所 資料ID 請求記号 状態 返却予定日 予約 WEB書棚
0001 本館 本館：３Ｆ一般書架 008805204 /578.4/F41s/2003 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 本館
配置場所 本館：３Ｆ一般書架
資料ID 008805204
請求記号 /578.4/F41s/2003
状態
返却予定日
予約 0件
WEB書棚
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書誌詳細

標題および責任表示 フォトポリマーの基礎と応用 / 山岡亜夫監修
フォトポリマー ノ キソ ト オウヨウ
版事項 普及版
出版・頒布事項 東京 : シーエムシー出版 , 2003.3
形態事項 vii, 336p ; 21cm
巻号情報
ISBN 4882317877
書誌構造リンク CMCテクニカルライブラリー||CMC テクニカル ライブラリー <BB00773226> 136//a
その他の標題 標題紙タイトル:Proceses and applications of photopolymers
その他の標題 その他のタイトル:実用高分子レジスト材料の新展開
ジツヨウ コウブンシ レジスト ザイリョウ ノ シンテンカイ
注記 「実用高分子レジスト材料の新展開」 (シーエムシー出版 1997年刊) の再版
学情ID BA61571778
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 山岡, 亜夫(1939-)||ヤマオカ, ツグオ <AU00067643>
分類標目 高分子化学工業 NDC8:578.4
分類標目 高分子化学工業 NDC9:578.4
件名標目等 感光性樹脂||カンコウセイジュシ
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