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新しいレジスト材料とナノテクノロジー

シーエムシー出版, 2002. <BB00957571>
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新しいレジスト材料とナノテクノロジー

シーエムシー出版, 2002. <BB00957571>
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所蔵一覧 1件～1件（全1件）

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No. 巻号 所蔵館 配置場所 資料ID 請求記号 状態 返却予定日 予約 WEB書棚
0001 日野館 日野：一般書架 102003894 /549.7/Y 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 日野館
配置場所 日野：一般書架
資料ID 102003894
請求記号 /549.7/Y
状態
返却予定日
予約 0件
WEB書棚
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書誌詳細

標題および責任表示 新しいレジスト材料とナノテクノロジー
アタラシイ レジスト ザイリョウ ト ナノテクノロジー
出版・頒布事項 東京 : シーエムシー出版 , 2002.9
形態事項 vi,253p ; 27cm
巻号情報
ISBN 4882313677
その他の標題 標題紙タイトル:New polymer resist and nano technology
注記 監修: 山岡亞夫
学情ID BA59535465
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 山岡, 亜夫(1939-)||ヤマオカ, ツグオ <AU00067643>
分類標目 電子工学 NDC8:549.7
分類標目 電子工学 NDC9:549.7
件名標目等 リソグラフィー||リソグラフィー
件名標目等 ナノテクノロジー||ナノテクノロジー
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