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プラズマ/プロセスの原理

Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg著 ; 佐藤久明訳. -- EDリサーチ社, 2001. <BB00963880>
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Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg著 ; 佐藤久明訳. -- EDリサーチ社, 2001. <BB00963880>
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No. 巻号 所蔵館 配置場所 資料ID 請求記号 状態 返却予定日 予約 WEB書棚
0001 本館 本館：３Ｆ一般書架 10000133240 /427.6/L62p/2001 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 本館
配置場所 本館：３Ｆ一般書架
資料ID 10000133240
請求記号 /427.6/L62p/2001
状態
返却予定日
予約 0件
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書誌詳細

標題および責任表示 プラズマ/プロセスの原理 / Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg著 ; 佐藤久明訳
プラズマ プロセス ノ ゲンリ
出版・頒布事項 東京 : EDリサーチ社 , 2001.11
形態事項 xxi, 430p : 挿図 ; 26cm
その他の標題 原タイトル:Principles of plasma discharges and materials processing
注記 監修 堀勝
注記 参考文献: p419-423
学情ID BA54690460
本文言語コード 日本語
著者標目リンク *Lieberman, M. A. (Michael A.) <AU00522929>
著者標目リンク Lichtenberg, Allan J <AU00522928>
分類標目 LCC:QC718.5.D9
分類標目 電磁気学 NDC8:427.6
分類標目 DC20:530.4/4
件名標目等 Plasma dynamics
件名標目等 Thin films -- Surfaces
件名標目等 Plasma etching
件名標目等 Plasma chemistry
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