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Glow discharge processes : sputtering and plasma etching

Brian Chapman. -- Wiley, 1980. -- (A Wiley-Interscience publication). <BB00676725>
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Glow discharge processes : sputtering and plasma etching

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No. 巻号 所蔵館 配置場所 資料ID 請求記号 状態 返却予定日 予約 WEB書棚
0001 本館 本館：B2南_洋図書 011317941 /427.5/C33g 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 本館
配置場所 本館：B2南_洋図書
資料ID 011317941
請求記号 /427.5/C33g
状態
返却予定日
予約 0件
WEB書棚
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書誌詳細

標題および責任表示 Glow discharge processes : sputtering and plasma etching / Brian Chapman
出版・頒布事項 New York : Wiley , c1980
形態事項 xv, 406 p. : ill. ; 24 cm
巻号情報
ISBN 047107828X
書誌構造リンク A Wiley-Interscience publication <BB00131179>//a
注記 Includes bibliographical references and index
学情ID BA00536398
本文言語コード 英語
著者標目リンク *Chapman, Brian N. <AU00340215>
分類標目 電磁気学 NDC8:427.5
分類標目 LCC:QC702.7.P6
分類標目 DC:537.5/2
件名標目等 Sputtering (Physics)
件名標目等 Glow discharges
件名標目等 Plasma etching
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