Tokyo Metropolitan University Library

液浸リソグラフィのプロセスと材料

東木達彦監修. -- 普及版. -- シーエムシー出版, 2012. -- (CMCテクニカルライブラリー ; 432 . エレクトロニクスシリーズ). <BB02167966>
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0001 Central Library Central:3F 10002736496 /549.7/E42s/2012 0items
No. 0001
Volumes
Library Central Library
Location Central:3F
Material ID 10002736496
Call No /549.7/E42s/2012
Status
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Bibliography Details

title and statement of responsibility area 液浸リソグラフィのプロセスと材料 / 東木達彦監修
エキシン リソグラフィ ノ プロセス ト ザイリョウ
edition area 普及版
publication,distribution,etc.,area 東京 : シーエムシー出版 , 2012.8
physical description area v, 243p ; 26cm
Volume Information
ISBN 9784781305509
parent bibliography link CMCテクニカルライブラリー||CMC テクニカル ライブラリー <BB00773226> 432 . エレクトロニクスシリーズ||エレクトロニクス シリーズ//aa
variant titles 標題紙タイトル:Process and Ingredient of Immersion Lithography
note 「液浸リソグラフィのプロセスと材料」(2006年刊)の普及版
NCID BB09913364
text language code Japanese
author link 東木, 達彦
ヒガシキ,タツヒコ <>
classification Electronic engineering NDC8:549.7
classification Electronic engineering NDC9:549.7
subject headings リソグラフィー||リソグラフィー