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最新機能成膜プロセス技術 : エレクトロニクスにおける機能膜作製技術
逢坂哲彌,二瓶公志編集. -- 広信社, 1987. <BB02135698>
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逢坂哲彌,二瓶公志編集. -- 広信社, 1987. <BB02135698>
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巻号
所蔵館
配置場所
資料ID
請求記号
状態
返却予定日
予約
WEB書棚
0001
本館
本館:B2北_和図書
012587294
/549/O73K
0件
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0001
巻号
所蔵館
本館
配置場所
本館:B2北_和図書
資料ID
012587294
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書誌詳細
標題および責任表示
最新機能成膜プロセス技術 : エレクトロニクスにおける機能膜作製技術 / 逢坂哲彌,二瓶公志編集
サイシン キノウ セイマク プロセス ギジュツ : エレクトロニクス ニ オケル キノウマク サクセイ ギジュツ
出版・頒布事項
東京 : 広信社 , 1987.6
形態事項
862p ; 27 cm
注記
各章末:文献
学情ID
BN01531664
本文言語コード
日本語
著者標目リンク
逢坂, 哲彌(1945-)||オオサカ, テツヤ <AU00408130>
著者標目リンク
二瓶, 公志(1937-)||ニヘイ, コウジ <AU00625374>
分類標目
化学工学.化学機器 NDC8:571.4
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