東京都立大学図書館
図書館HP | ログイン
  • 目録検索 目録検索 ▼
  • 利用者サービス マイライブラリ ▼
    • 利用状況の確認
    • ブックマーク
    • お気に入り検索
    • タグ履歴
    • 複写依頼
    • 貸借依頼
    • 新規購入依頼

東京都立大学図書館

よくわかる最新半導体プロセスの基本と仕組み : シリコンが半導体になる製造工程を俯瞰

佐藤淳一著. -- 第4版. -- 秀和システム, 2020. -- (How-nual図解入門). <BB02382132>
登録タグ：
登録されているタグはありません
便利機能：
詳細情報を見る
書誌URL：

よくわかる最新半導体プロセスの基本と仕組み : シリコンが半導体になる製造工程を俯瞰

佐藤淳一著. -- 第4版. -- 秀和システム, 2020. -- (How-nual図解入門). <BB02382132>
登録タグ：
登録されているタグはありません
便利機能：
詳細情報を見る
書誌URL：

所蔵一覧 1件～2件（全2件）

ナンバーをクリックすると所蔵詳細をみることができます。

No. 巻号 所蔵館 配置場所 資料ID 請求記号 状態 返却予定日 予約 WEB書棚
0001 本館 本館：３Ｆ一般書架 10005563772 /549.8/Sa85y/2020 0件
0002 日野館 日野：一般書架 20002007227 /549.8/Sa 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 本館
配置場所 本館：３Ｆ一般書架
資料ID 10005563772
請求記号 /549.8/Sa85y/2020
状態
返却予定日
予約 0件
WEB書棚
No. 0002
巻号
所蔵館 日野館
配置場所 日野：一般書架
資料ID 20002007227
請求記号 /549.8/Sa
状態
返却予定日
予約 0件
WEB書棚
このページのTOPへ

書誌詳細

標題および責任表示 よくわかる最新半導体プロセスの基本と仕組み : シリコンが半導体になる製造工程を俯瞰 / 佐藤淳一著
ヨク ワカル サイシン ハンドウタイ プロセス ノ キホン ト シクミ : シリコン ガ ハンドウタイ ニ ナル セイゾウ コウテイ オ フカン
版事項 第4版
出版・頒布事項 東京 : 秀和システム , 2020.9
形態事項 255p : 挿図 ; 21cm
巻号情報
ISBN 9784798062457
書誌構造リンク How-nual図解入門||How nual ズカイ ニュウモン <BB00772875>//a
その他の標題 奥付タイトル:最新半導体プロセスの基本と仕組み : 図解入門よくわかる
サイシン ハンドウタイ プロセス ノ キホン ト シクミ : ズカイ ニュウモン ヨク ワカル
その他の標題 異なりアクセスタイトル:半導体プロセスの基本と仕組み : よくわかる最新
ハンドウタイ プロセス ノ キホン ト シクミ : ヨク ワカル サイシン
注記 参考文献: p247
学情ID BC02315587
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 佐藤, 淳一(1954-)||サトウ, ジュンイチ <AU00665748>
分類標目 電子工学 NDC8:549.8
分類標目 電子工学 NDC9:549.8
分類標目 電子工学 NDC10:549.8
分類標目 科学技術 NDLC:ND371
件名標目等 半導体||ハンドウタイ
件名標目等 半導体||ハンドウタイ
このページのTOPへ
このページのTOPへ

  • 関連情報

    関連資料

    他の検索サイトで探す

    他大学資料確認

    資料を取り寄せる

    • ILL複写依頼(コピー取り寄せ)
    • ILL貸借依頼(現物借用)

    この書誌のQRコード